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原位式激光氣體分析系統 TY-6500

天禹智控的激光過程氣體分析系統的測量探頭由發射單元和接收單元組成,發射單元由人機界面、激光器驅動模塊、中央處理模塊、半導體激光器和精密光學元件等器件組成;接收單元由光電傳感器、信號處理模塊、電源模塊和精密光學元件等部分組成;吹掃單元由過濾器、減壓閥和穩流裝置等組成;正壓控制模塊采用隔爆設計,內置壓力傳感、信號處理、電源控制和信息顯示等模塊。

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產品詳情規格參數使用指南售后支持范圍

1.原位式激光氣體分析系統產品特性
1.無氣體交叉干擾，特定組分氣體只在特定波長下存在吸收譜，具有較強的氣體選擇性；
2.獨特的光路設計，能有效消除現場振動對光路的影響；
3.測量方式靈活，既可適應于高達1000℃高溫下的原位測量，亦可配備旁路采樣系統對氣體分析監測；
4.光強補償算法，保證儀器在高粉塵、高顆粒物的工況條件下仍準確分析監測；
5.多種測量方式，直接吸收，結合專業的譜圖分析方法，保證測量結果的靈敏度和線性范圍；
6.溫度、壓力補償，外部溫度、壓力輸入或內置溫度、壓力傳感器，結合優化的補償算法，提高測量準確性；
7.采用分布式微處理技術，分析速度快，響應時間≤1s。

2. 原位式激光氣體分析系統技術指標

技術指標
測量技術	TDLAS
測量組分	HF、HCL、O2、CO、CO2、H2O、O2、NH3、CH4等
測量準確度	±2 F.S.,±4 F.S.，±6%F.S.
測量范圍	最小量程(1) 最大量程(1)
NH3	0~10ppm 0~5000ppm
HF	0~2ppm 0~2000ppm
HCL	0~10ppm 0~3000ppm
CO/CO2	0~2000ppm 0~100vol%
H2O	0~10ppm 0~3000ppm
O2	0~3vol% 0~100vol%
防護等級	主機IP20，發射、接收單元IP66	IP65	激光分析儀IP66，二次儀表IP65
工作條件
電源	220VAC，50Hz
吹掃氣	0.3~0.8MPa,15L/min
分析儀工作溫度	0-95%RH,-10℃-50℃
光學端工作溫度	5-95%RH,-40℃-65℃不結露
氣體壓力	25~200kPa
接口信號
數字通訊接口	RS485/以太網
模擬量輸入	8路4-20mA	4路4-20mA	2路4-20mA
模擬量輸出	8路4-20mA	4路4-20mA	2路4-20mA
繼電器輸出	8路24V/1A	5路24V/1A	3路24V/1A

3.應用領域

應用行業	測量對象
電解鋁廠等	HF，HCL，NH3尾氣排放監測
燃煤電廠	煙氣脫硝工藝的NH3逃逸監測
鋼鐵行業	轉爐，高爐，噴煤等CO，CO2，O2監測
石化，化工行業	腐蝕性氣體HF，H2S和微量H2O監測
垃圾焚燒	HF，HCL，CO，CO2
垃圾填埋	H2S，NH3
煙草加工	CO，CO2
廢水處理	H2S
環境空氣	H2S，NH3，CO，CO2監測
工業工藝流程	H2O，CO2，O2監測

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